Silicon Carbide Coating Graphite Tray

Semixlab Garaafyada Gaarka ah Qalabka Ceyriinka ee Silikon Kaarbide ee Dahaarka Garaafka

Tignoolajiyada Semixlab-ka, Saxaradayada Garaafyada Dahaarka leh ee Silicon Carbide (SiC) waxaa loo naqshadeeyay inay si la isku hallayn karo u qabtaan jawiyada habsocodka semiconductor-ka ugu baahida badan—halkaas oo heerkulka aadka u daran, gaasaska wasakhaysan, iyo xaaladaha nadiifka ah ay isugu yimaadaan. Saxanadahani waxay isku daraan faa'iidooyinka kulaylka iyo farsamada ee garaafka isostatic cufnaanta sare leh oo leh xasilloonida kiimikaad ee gaarka ah iyo hufnaanta dusha sare ee daahan cufan ee CVD silicon carbide. Natiijadu waa qayb adag oo nadiif ah oo ka ciyaarta doorka lama huraanka ah ee ilaalinta lebiska nidaamka, soo saara joogteynta, iyo wakhtiga qalabka ee talaabooyinka kala duwan ee samaynta wafer-dhamaadka hore.

Nidaamyada koritaanka epitaxial gudahooda - oo ay ku jiraan silikoon (Si) iyo silikoon carbide (SiC) epitaxy - saxaarad garaafeedka dahaarka leh ee SiC waxay u shaqeysaa sida sidaha wafer-ka saxda ah ama saldhigga suulaha. Waxay bixisaa taageero farsamo oo deggan iyada oo la ilaalinayo qaybinta heerkulka isku midka ah ee dusha sare ee wafer, taas oo muhiim u ah xakamaynta dhumucda filimka, lebbiska dopant, iyo tayada crystal. Daahanka SiC wuxuu u shaqeeyaa sidii xannibaad kiimikaad ah oo ka soocda substrate-ka garaafyada gaasaska falceliska ah sida H₂, HCl, iyo SiHCl₃, ka hortagga wasakhowga kaarboon ama falcelinta-wajiga gaaska. Dusha sare ee muraayadda-dheecan waxay yaraynaysaa jiilka walxaha waxayna awood u siinaysaa hawlgalka muddada dheer ee jawiga heerkulka sare ilaa 1650 °C iyada oo aan hoos u dhicin.

Dahaarka Silicon Carbide Sawirka Sawirka Sawirka Muuqaallada Codsiga

Gudaha MOCVD iyo habka dejinta semiconductor-ka loo isticmaalo samaynta GaN, GaAs, iyo InP qalabyada - saxaaradku waxa uu u adeegaa sidii xamaar heerkul sare ah kaas oo ay tahay in uu u adkaysto soo-gaadhista soo noqnoqda ee hydrogen iyo kiimikada ku salaysan ammonia. Iska caabbinta daxalka sare ee dahaarka SiC wuxuu ka hortagayaa nabaad-guurka iyo roughening dusha sare, hubinta qaab-dhismeedka filimka joogtada ah iyo nolosha qaybta la dheereeyey. Xasiloonidani waxay si toos ah u tarjumeysaa xaaladaha kobaca ee la saadaalin karo iyo soo saarista qalabka sare ee LED-ka, awoodda, iyo soosaarka qalabka RF.

Saxeexa garaafka dahaarka leh ee SiC waxa kale oo uu door muhiim ah ka ciyaaraa fidinta, oksaydhaynta, nuglaynta, iyo habaynta kulaylka degdega ah (RTP). Inta lagu jiro tillaabooyinkan heerkulka sarreeya, saxaaraddu waxay u shaqeysaa sidii goob taageero ah oo ilaalisa isku-habboonaanta waferka, iska caabisa oksaydhka, oo yaraysa qallooca kulaylka. Heerkulkeeda sare waxay u oggolaanaysaa kuleyl degdeg ah oo isku mid ah, taas oo awood u siinaysa xakamaynta heerkulka saxda ah iyo yaraynta diiqada kulaylka ee mareegaha. Caqabadda SiC waxay si dheeraad ah uga ilaalinaysaa gaas-baxa iyo wasakhowga birta-laba sababood oo asaasi ah oo luminaya wax-soo-saarka soo-saarka aaladaha horumarsan.

Dhammaan codsiyadan, Semixlab SiC Coated Graphite Tray uma shaqeeyo oo kaliya sida qalab farsamaysan laakiin waa is dhexgal sax ah oo loo farsameeyey kaasoo qeexaya kuleyliyaha, kiimikaad, iyo xasiloonida nadaafadda dhammaan tallaabada wax soo saarka. Marka la isku daro tignoolajiyada dahaarka sare leh ee CVD, xulashada walxaha saafiga ah, iyo xakamaynta joomatari ee adag, Semixlab wuxuu bixiyaa qaybo buuxiya isku halaynta adag iyo heerarka nadaafadda ee dharka semiconductor-ka casriga ah. Saxaarad kasta waxaa loogu talagalay waxqabadka dib loo soo saari karo ee wareegyada geeddi-socodka badan, bixinta joogtaynta iyo adkeysiga looga baahan yahay soosaarayaasha caalamiga ah ee raadinaya wax-soo-saarka aaladda sare, cufnaanta cilladda hoose, iyo qalabka la dheereeyey.