TaC Dahaarka Tilmaamaha giraanta

Semixlab's TaC Hagaha Dahaarka ah giraanta waxaa lagu farsameeyay saxnaanta iyo waxqabadka maskaxda, loogu talagalay inay u adkeysato xaaladaha ba'an ee jawiga wax soo saarka heerkul sare iyo daxalka. Adeegsiga dahaarka sare ee CVD TaC (Chemical Vapor Deposition of Tantalum Carbide), qaybtani waxa ay keentaa waarta, xasiloonida kulaylka, iyo caabbinta kiimikaad.

Soo saaraha Timaha Dahaarka leh ee TaC ee la aamini karo, Semixlab wuxuu bixiyaa xalal habaysan oo hubiya waafaqid noocyo badan oo habab farsamayn oo wafer ah. Haddi loogu yeero TaC dahaarka giraanta weecinta, giraanta hagida TaC, ama giraanta CVD TaC, qaybtani waxay muhiim u tahay ilaalinta isku xidhka waferka iyo socodka isku midka ah ee faafinta iyo codsiyada epitaxy.

Ⅰ Qalabaynta Maaddada & Dahaarka Dusha sare

Saldhigga faraantiyada hagaha Semixlab wuxuu caadi ahaan ka kooban yahay garaafyo saafi ah oo sarreeya ama silikoon carbide (SiC), oo loo doortay qaabdhismeedkeeda iyo hufnaanta kulaylka. Dusha sare ayaa markaa lagu dahaadhay lakab labis ah oo Tantalum Carbide (TaC) iyada oo loo marayo hab sax ah oo CVD ah, samaynta xayndaab cufan, adag, oo siman oo u adkaysata xidhashada, weerar kiimikaad, iyo xaalufka kulaylka.

Astaamaha Muhiimka ah ee Dahaarka CVD TaC:

● Barta dhalaalka sare (~ 3880°C).

● Iska caabin heer sare ah oo ka dhan ah HF, HCl, iyo gaasaska kale ee hab-socodka.

● Adkeyn gaar ah (Mohs 9-10).

● Waxqabad heersare ah oo ka-hortagga walxaha daadinta.

Ⅱ Maxaad u doorataa Semixlab?

Semixlab wuxuu ka dhex muuqdaa alaab-qeybiyeyaasha giraanta dahaarka leh ee TaC isagoo bixinaya:

● Adeegyada naqshadaynta oo si buuxda loo beddeli karo si ay ugu habboonaato noocyada reactor ee kala duwan.

● Dulqaad adag oo cabbirkiisu yahay is-dhexgalka aan kala go 'lahayn.

● Deegaanka wax soo saarka walxaha hoose ee hubinaya nadiifnimada iyo nadaafadda.

Kooxdayadu waxay si dhow ula shaqeeyaan injineerada habka semiconductor si ay u horumariyaan xalalka Hagaha Semixlab ee ku habboon ee loogu talagalay khadadka wax soo saarka sare. Badeeco kastaa waxa lagu maraa kormeer adag si loo hubiyo in dahaadhka lebbiska iyo hufnaanta qaabdhismeedka ka hor dhalmada.

Codsiyada wax soo saarka Semiconductor

1. Plasma Etching - Ilaalinta daacadnimada Wafer ee hoos yimaada Bey'ada Plasma falcelinta

Nidaamyada etching balaasmaha ee horumarsan, halkaas oo maraqyada ay la kulmaan balaasmooyinka tamarta sare leh iyo kiimikooyinka gaaska falceliska ah (sida CF₄, SF₆, Cl₂, iyo BCl₃), TaC Dahaarka Hagaha Ring wuxuu u adeegaa shaqo muhiim ah:

waxa ay dejinaysaa oo ay sugaysaa sidaha wafer-ka ama wax-ka-yaraha, iyada oo ka hortagaysa wax kasta oo qallafsan ama gariirka saamayn kara saxnaanta etch.

Waxa ka sii muhiimsan, daahanka CVD-ku kaydsan Tantalum Carbide wuxuu sameeyaa xannibaad kiimiko ahaan aan shaqayn oo iska caabiya daxalka iyo nabaad guurka noocyada balaasmaha ee fal-celiska ah. Tani waxay ka hortagtaa nabaad-guurka walxaha waxayna meesha ka saartaa daadinta walxaha, taas oo ah sababta ugu weyn ee wasakhowga yaryar iyo luminta dhalidda.

2. Kaydinta Uumiga Kiimikada (CVD) & Dhigista Uumiga Jirka (PVD) - Xaqiijinta Samaynta Filimada Khafiifka ah ee lebbisan

Labada geeddi-socod ee CVD iyo PVD, xakamaynta heerkulka saxda ah iyo nadiifinta kiimikada ayaa lagama maarmaan u ah si loo gaaro meel dhigista filim khafiif ah oo tayo sare leh. Inta lagu jiro tillaabooyinkan, giraanta hagaha ayaa kaa caawinaysa in si sax ah loo dhigo nidaamka taageerada wafer-ka oo hubiya qaybinta qulqulka gaaska isku midka ah ee dusha sare ee waferka.

Daahan TaC, oo leh barta dhalaalaysa ee aadka u sareysa (~ 3880 ° C) iyo falcelin hoose oo leh gaasas horudhac ah, waxay ilaalisaa daacadnimada qaab dhismeedka xitaa iyadoo ku hoos jirta baaskiil kulaylka iyo xaaladaha faakuumka sare. Si ka duwan garaafyada aan dahaarka lahayn ama qaybaha birta ah, kama falceliso ama ma nuurto gaasaska hawsha, taas oo muhiim u ah ka fogaanshaha wasakhaynta kiimikada.

Faa'iidooyinka muhiimka ah ee CVD/PVD:

● Waxay ka hortagtaa qallooca ama leexashada cabbirka inta lagu jiro korriinka filimka heerkulka sare.

● Waxay xaqiijisaa jawi nidaam nadiif ah iyadoo ka hortagaysa gaaska ama isdhexgalka kiimikada.

● Waxay xoojisaa isku-duubnida meel dhigista 200mm iyo 300mm wafers.

Ku habboon in la xareeyo filimada horumarsan sida SiN, SiO₂, Al₂O₃, TiN, iyo lakabyada xannibaadyada.