Silsiladda Garaafiga ee CVD SiC

Dhululubada garaafka CVD SiC waxay u adeegaan sida qaybo muhiim ah oo qaab-dhismeed ah oo ku jira qalabka farsamaynta semiconductor-ka heerkulka sare leh, oo ay ku jiraan falgalayaasha epitaxial iyo nidaamyada dhigista uumiga kiimikada (CVD). Waxay door muhiim ah ka ciyaaraan ilaalinta jawi falcelin oo deggan, hagidda socodka gaaska habka, iyo ilaalinta qaybaha falgalayaasha gudaha inta lagu jiro hababka wax soo saarka semiconductor-ka ee horumarsan.

Qaybtan waxaa caadi ahaan lagu sameeyaa iyadoo la adeegsanayo substrate isostatic graphite oo cufnaan sare leh oo ay weheliso dahaarka silicon carbide (SiC) ee kiimikada cufan ee kaydisa uumiga (CVD). Substrate-ka garaafka wuxuu bixiyaa kuleyl aad u fiican, xoog dhismeed, iyo mashiin, halka dahaarka SiC uu sameeyo dusha sare oo nadiif ah oo kiimiko ahaan aan firfircoonayn.

Dhululubada garaafiga Semixlab CVD SiC waxaa si weyn loogu isticmaalaa nidaamyada epitaxy ee SiC, falgalayaasha epitaxy ee silicon, qalabka GaN MOCVD, iyo falgalayaasha kale ee CVD ee heerkulka sare leh. Codsiyadan, xasilloonida kulaylka sare, iska caabbinta daxalka, iyo xakamaynta wasakhowga ayaa muhiim u ah ilaalinta waxqabadka geeddi-socodka oo deggan.

Doorka Semiconductor Epitaxy iyo CVD Reactors

Xasilinta Deegaanka Falcelinta

Gudaha falgalayaasha epitaxy iyo CVD, dhululubada garaafka waxaa badanaa lagu rakibaa agagaarka ama meel u dhow isku-xirka salka ama side-ka wafer-ka, taasoo qayb ka ah qaab-dhismeedka aagga falgalka gudaha. Joogitaankoodu wuxuu ka caawiyaa qeexidda joomatari ee booska falgalka wuxuuna hubiyaa meel deggan oo qaybaha habka muhiimka ah.

Iyada oo la ilaalinayo hufnaanta qaab-dhismeedka qolka inta lagu jiro hawlgalka heerkulka sare, dhululubada garaafka waxay sahlaysaa qaybinta heerkulka deggan iyo xaaladaha falcelinta - oo lagama maarmaan u ah gaaritaanka koboc filim oo isku mid ah oo ku yaal wafers-ka.

Hagaajinta Socodka Gaaska Geedi socodka

Xakamaynta socodka gaaska ee saxda ah ayaa ugu muhiimsan hababka dhigista semiconductor-ka. Qaab-dhismeedka dhululubada ah wuxuu hagaa socodka gaaska ee horudhaca ah ee dhex mara aagga falcelinta, isagoo yareynaya jahwareerka isla markaana kor u qaadaya qaybinta gaaska oo isku mid ah.

Deegaanka socodka la xakameeyey wuxuu xoojiyaa isku dheelitirka habka wuxuuna taageeraa dhigista walxaha isku midka ah - gaar ahaan muhiim u ah hababka koritaanka epitaxial ee u baahan dhumuc adag iyo xakamaynta isku mid ahaanshaha daawada.

Ilaalinta Qaybaha Reaktor-ka

Inta lagu jiro habaynta heerkulka sare, gaasaska falgalka leh iyo waxyaabaha ka soo baxa dhigista ayaa laga yaabaa inay la falgalaan dusha sare ee falgalka. Dhululubada garaafka waxay u adeegaan sidii caqabado qaab dhismeed oo ilaalin ah, iyagoo ka ilaalinaya qaybaha falgalka xasaasiga ah inay si toos ah ugu soo gaadhaan xaaladaha habka daxalka. Shaqadan ilaalinta ah waxay gacan ka geysataa yareynta khataraha wasakhowga waxayna kor u qaaddaa isku halaynta guud ee nidaamyada dhigista.

Codsiyada Habka Semiconductor-ka Caadiga ah

Dhululubada garaafiga Semixlab CVD SiC waxaa si weyn loogu isticmaalaa hababka kala duwan ee wax soo saarka semiconductor-ka ee horumarsan.

Qalabka Korontada ee SiC Epitaxy ee loogu talagalay Qalabka Semiconductor-ka Korontada

Falaagada epitaxy ee silicon carbide, heerkulka korriinku wuxuu caadi ahaan ka badan yahay 1500°C, jawiyada habkana waxaa ku jiri kara gaasaska hydrogen iyo chlorine. Xaaladahan ba'an, qaybaha fallaadhaha waa inay muujiyaan xasillooni kuleyl iyo kiimiko oo heer sare ah.

Dhululubada garaafka CVD SiC waxay gacan ka geystaan ​​​​ilaalinta jawi falcelin oo deggan waxayna taageeraan koritaanka lakabka epitaxial ee isku midka ah ee wax soo saarka qalabka korontada SiC.

Silikoon Epitaxy

Hawsha epitaxy silicon ee aaladaha macquulka iyo korontada ee horumarsan, qaybaha fal-galayaasha waa inay ilaaliyaan xasilloonida cabbirka adag si loo hubiyo qaybinta gaaska ee joogtada ah iyo xakamaynta heerkulka. Dhululubada garaafka waxay gacan ka geystaan ​​​​qaab-dhismeedka qolka gudaha ee deggan, taasoo taageerta dhigista lakabka epitaxial silicon ee isku midka ah ee ku yaal wafers-ka.

Habraacyada MOCVD ee GaN iyo LED-yada

Soo saarista gallium nitride iyo LED-ka, fal-galayaasha MOCVD waxay ku shaqeeyaan heerkul sare iyagoo adeegsanaya gaasaska horudhaca ah ee aadka u falceliyay sida ammonia iyo isku-dhafka birta dabiiciga ah. Dhululubada gaaska garaafka CVD SiC waxay gacan ka geystaan ​​​​dejinta qaab-dhismeedka fal-galayaasha waxayna hagaan gaasaska habka, iyagoo kor u qaadaya isku-dhafka dhigista iyo isku-kalsoonida qalabka muddada-dheer.

Nidaamyada Kaydinta CVD Heerkulka Sare

Nidaamyada kala duwan ee kaydinta ee ku salaysan CVD - sida kuwa polysilicon, silicon carbide, ama agab kale oo horumarsan - dhululubada gaaska graphite waxay taageeraan hawlgalka fal-galka oo deggan waxayna yareeyaan khataraha wasakhowga.